在某一些材料的表面，鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理以及化學(xué)性能。而真空鍍膜就是其中一種，真空鍍膜就是將置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

真空鍍膜廠家在生產(chǎn)的過(guò)程中，通常要對(duì)材料的光學(xué)均勻性進(jìn)行實(shí)時(shí)的檢測(cè)。一般使用光密度在線測(cè)試儀LS152，對(duì)鍍膜產(chǎn)品進(jìn)行在線品質(zhì)的監(jiān)控。

光密度在線測(cè)試儀也叫真空鍍膜在線測(cè)厚儀，檢測(cè)原理有四種測(cè)定方式：

1、測(cè)量薄層斑點(diǎn)透射光強(qiáng)度的透射法，適用于可見(jiàn)光區(qū)。主要缺點(diǎn)是吸著劑和玻璃板本身會(huì)有吸收，而且薄層厚度的不均勻會(huì)引起基線不穩(wěn)，對(duì)測(cè)量的準(zhǔn)確度有影響。

2、測(cè)量薄層斑點(diǎn)反射光強(qiáng)度的反射法，適用于紫外、可見(jiàn)光區(qū)，要求薄層表面十分平整。

3、同時(shí)測(cè)定透射光和反射光的透射-反射法，記錄兩種光信號(hào)值之和，這種測(cè)定方式，基線平穩(wěn)，測(cè)量誤差小，靈敏度高。

4。如果化合物本身有熒光或經(jīng)過(guò)適當(dāng)處理后，生成熒光化合物者也可用熒光測(cè)定法。

真空鍍膜的功能是多方面的，包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。其應(yīng)用場(chǎng)合也非常豐富。

真空鍍膜中光密度的測(cè)試范圍就是線性范圍，光密度值在這個(gè)范圍內(nèi)與待測(cè)試液的濃度成線性關(guān)系。由于厚度非常薄，所以必須要通過(guò)光學(xué)性質(zhì)來(lái)檢測(cè)鍍膜厚度的均勻性。光密度在線測(cè)試儀LS152，就是專(zhuān)門(mén)為真空鍍膜而設(shè)計(jì)生產(chǎn)的。